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• Aufbringung von Siliziumoxidschichten durch Plasma-CVD und Anwendung auf Beschichtungen in einer Plasma-Wirbelschicht Bayer, Christian Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1998

• Deposition und Charakterisierung von metallhaltigen, amorphen Kohlenwasserstoffilmen zur Anwendung in Sonnenkollektoren Gampp, Ronald Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1996

• Herstellung und Charakterisierung von Carbonitridschichten Hartmann, Josef Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1997

• PECVD-Prozesse mittels Hohlkathodenglimmentladung Hellmich, Anke Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1997

• Plasmaabgeschiedene integriert optische Wellenleiter auf Silizium für die faseroptische Kommunikationstechnik Hoffmann, Martin Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1997

• Plasmagestütztes CVD mit metallorganischen und analogen Verbindungen Gebauer, Andreas Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1994

• Untersuchungen zum Einfluß netzwerkmodifizierender Elemente auf die freie Oberflächenenergie amorpher Kohlenwasserstoff-Schichten Trojan, Klaus Als Ms. gedr., Düsseldorf : VDI-Verl., 1996