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Titelaufnahme

Titel
Aufbringung von Siliziumoxidschichten durch Plasma-CVD und Anwendung auf Beschichtungen in einer Plasma-Wirbelschicht / Christian Bayer
VerfasserBayer, Christian In der Gemeinsamen Normdatei der DNB nachschlagen In Wikipedia suchen nach Christian Bayer
ErschienenDüsseldorf : VDI-Verl., 1998
Ausgabe
Als Ms. gedr.
UmfangXIV, 146 S. : Ill., graph. Darst.
HochschulschriftZugl.: Zürich, Techn. Hochsch., Diss.
Bibl. ReferenzDiss. ETH 12502
SerieFortschritt-Berichte VDI : Reihe 3, Verfahrenstechnik ; 534
SchlagwörterHexamethyldisiloxan In Wikipedia suchen nach Hexamethyldisiloxan / PECVD-Verfahren In Wikipedia suchen nach PECVD-Verfahren / Mikrowellenplasma In Wikipedia suchen nach Mikrowellenplasma / Wirbelschichtverfahren In Wikipedia suchen nach Wirbelschichtverfahren / Siliciumdioxid In Wikipedia suchen nach Siliciumdioxid / Dünne Schicht In Wikipedia suchen nach Dünne Schicht
ISBN3-18-353403-7
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